一、產(chǎn)品名稱概述：高分子發(fā)泡材料研磨分散機,高分子材料管線式研磨分散機,發(fā)泡材料研磨分散機,高分子材料超高速分散機

SGN研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。研磨分散機轉速可達18000rpm，膠體磨+分散機一體化設備，先研磨后分散，效果佳。

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二、高分子發(fā)泡材料特點和應用

目前，高分子發(fā)泡材料廣泛應用于隔熱、隔音、減震、制鞋等領域。目前常用的高分子材料發(fā)泡方式有物理發(fā)泡和化學發(fā)泡。化學發(fā)泡法是指將化學發(fā)泡劑與高分子材料共混后，在一定溫度下，化學發(fā)泡劑受熱分解，產(chǎn)生氣體，膨脹，使高分子材料發(fā)泡，目前加熱方式主要還是電加熱方式，由于電加熱過程是通過熱傳導使高分子材料加熱，即首先通過電熱板將發(fā)泡模具加熱，發(fā)泡模具將熱量再傳遞給模腔內(nèi)的發(fā)泡材料，存在能耗高，加熱時間長，易出現(xiàn)局部加熱溫度過高而部分區(qū)域仍存在加熱死角等問題。

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三、高分子發(fā)泡材料研磨分散設備簡介

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） SGN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達18000rpm，是目前普通設備轉速的4-5倍。

四、高分子發(fā)泡材料分散機結構

GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

初級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

四、從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個重要因素，超高速分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的

六、研磨分散設備其它參數(shù):

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTG 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

七、GMSD2000系列高分子材料研磨分散機型號 

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